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本产品专为碳化硅衬底片粗抛工艺量身定制,适用于4英寸至12英寸碳化硅单面抛光及双面抛光等多种定制化制程。
高效去除速率、抛光后表面低粗糙度、抛光后无新损伤产生。
磨料SEM图
粒径分布图
抛后AFM图
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